Первые рабочие микросхемы власти КНР планируют начать выпускать в 2028 году, но собеседники агентства называют более вероятным сроком 2030-й.
- Прототип EUV-станка для фотолитографии начали тестировать в «строго охраняемой» лаборатории Шэньчжэне в начале 2025 года, пишет Reuters со ссылкой на источники.
- По данным агентства, работа ведётся с 2019 года в рамках государственной программы при участии Huawei. В проекте задействованы тысячи инженеров, в том числе бывшие сотрудники нидерландского производителя фотолитографических машин ASML — некоторые из них используют псевдонимы.
EUV-станок (машина для EUV-литографии) — это высокотехнологичное оборудование, используемое для производства наиболее передовых микрочипов путём «печати» с помощью экстремального ультрафиолетового излучения. Такие устройства работают в полном вакууме, используют сложные многослойные зеркала вместо линз и позволяют создавать мельчайшие элементы транзисторов.
- Китайские специалисты провели обратный инжиниринг оборудования от ASML, рассказали собеседники. Для создания прототипа они купили на вторичном рынке комплектующие от старых машин нидерландской компании, а также использовали компоненты от японских Nikon и Canon, экспорт которых ограничен.
- По словам источников, устройство успешно генерирует экстремальное ультрафиолетовое излучение, но работоспособные чипы пока не производит. Китайские инженеры по-прежнему сталкиваются с «техническими проблемами». В частности, им пока не удалось воспроизвести высокоточные оптические системы (линзы), подобные тем, что для ASML изготавливает немецкая компания Zeiss.
- Китайское правительство поставило цель начать производство работающих микросхем с помощью прототипа к 2028 году, отмечают собеседники. Однако более вероятным сроком они называют 2030-й.
- В апреле 2025 года глава ASML Кристоф Фуке заявил, что Китаю потребуется «много-много лет» для разработки подобных технологий. Но существование прототипа говорит о том, что КНР находится гораздо ближе к «достижению независимости» в сфере полупроводников.
- Пока технологию EUV-литографии освоила только ASML. Её оборудование стоимостью около $250 млн используют все производители современных чипов, в том числе TSMC, Intel и Samsung.
- С 2018 года Нидерланды под давлением США ограничили поставки оборудования от ASML в Китай. В 2022-м администрация Байдена ввела экспортный контроль, чтобы «перекрыть Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям».
Источник: vc.ru
✅ Найденные теги: Reuters, Китай, Китай:, новости, Прототип, Фотолитографический Станок, Чипы
